Вакуумная установка NexDep производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - гибкий дизайн и компактное исполнение для различных применений. Система может быть сконструирована согласно требованиям заказчика.
Система Nexdep может быть построена согласно требованиям заказчика компактного размера и по экономичной цене.
Система может быть адаптирована под любой процесс: резистивное термическое испарение, магнетронное распыление или электронно-лучевое напыление, ионное асистирование.
Возможность установки нескольких разных процессов в одной камере.
Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)
ø400мм x 475мм высотой D-образной формы камера с закрепленной на петлях дверью.
Камера из алюминия или нержавеющей стали (опция)
Дизайн согласно требованиям заказчика к процессам
Поддержка нескольких разных PVD процессов в одной камере.
600мм х 1000мм - площадь занимаемая системой
Автоматическое управление процессами осаждения многослойных пленок на основе рецептов.
Процесс последовательного или параллельного (co-deposition) напыления.
Контроль вакуума и вакуумная система:
- Автоматический форвакуумный насос
- Сухие насосы (опция)
- Высокий вакуум обеспечивается турбомолекулярным насосом (крионасос - опция)
- Пневматически воздушный фильтр
Управление процессом осаждения:
- теневая маска и выравнивание подложки
- легко и быстро устанавливаемые датчики для поддержки и контроля процесса
- датчики скорости осаждения для контроля и управления процессом
- конфигурация для реализации процесса соосаждения- co-deposition (параллельное осаждение нескольких материалов для получения сплава)
- QCM - изолированный датчик обеспечивает отсутствие интерференции при напылении от прилегающих источников
- Изолирующие экраны из нержавеющей стали защищающие от загрязнения от перекрестного напыления.
- Нагрев подложки, охлаждение и доп. смещение на подложку
- Планетарное вращение или GLAD держатель с изменением угла при напылении
Вакуумная установка Amod производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - сконструирована и разработана для удовлетворения продвинутых требований к процессам в одной машине для исследований в области напыления тонких пленок и мелкосерийного производства.
Может оснащаться перчаточным боксом и загрузочным шлюзом.
Пластины диаметром до 300 мм или 3 х 100 мм, до 150х150 мм.
Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)
Вакуумная установка Amod производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - сконструирована и разработана для удовлетворения продвинутых требований к процессам в одной машине для исследований в области напыления тонких пленок и мелкосерийного производства.
Может оснащаться перчаточным боксом и загрузочным шлюзом.
Пластины диаметром до 300 мм или 3 х 100 мм, до 150х150 мм.
Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)
Кластерные вакуумные установки NEBULA производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - соединение всех технологий Angstrom Engineering в одном кластере. Имеет наибольшие возможности по конфигурирования системы для задач заказчика. Может оснащаться перчаточным боксом и загрузочным шлюзом, кассетной станцией и камерами для различных процессов в зависимости от задач заказчика.
Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)
Атомно-слоевое осаждение (ALD)
Плазменное травление (RIE, ICP-RIE)
Плазменное осаждение (PECVD, ICPECVD)
Кластерные вакуумные установки NEBULA производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - соединение всех технологий Angstrom Engineering в одном кластере. Имеет наибольшие возможности по конфигурирования системы для задач заказчика. Может оснащаться перчаточным боксом и загрузочным шлюзом, кассетной станцией и камерами для различных процессов в зависимости от задач заказчика.
Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)
Атомно-слоевое осаждение (ALD)
Плазменное травление (RIE, ICP-RIE)
Плазменное осаждение (PECVD, ICPECVD)
Вакуумная установка ионно-лучевого распыления Reticle (IBSD) производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - идеальное решение для распыления оптических покрытий очень высокого качества.
Пластины диаметром до 200 мм.
Процессы:
IBSD (Ion beam sputter deposition)
Вакуумная установка ионно-лучевого распыления Reticle (IBSD) производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - идеальное решение для распыления оптических покрытий очень высокого качества.
Пластины диаметром до 200 мм.
Процессы:
IBSD (Ion beam sputter deposition)