Вакуумные установки магнетронного распыления линейного типа Linear Sputter System производства Angstrom Engineering Inc. (Канада). Установки для серийного производства и напыления на пластины или шаблоны (Al, Ni, Cr, V, Ti, Cu и др.). Установки заменят выходящие из строя старые установки МАГНА-2М или Оратория 29 и т.п.
Эта серия систем обеспечивает высокую пропускную способность производства на крупных подложках, могут быть легко интегрированы в более крупные кластеры производственных инструментов, а также обеспечивает впечатляющую однородность.
Создание устройств на очень больших подложках, напыление нескольких слоев за один проход с большой однородностью. Высокая эффективноть использоваиня мишеней.
Процессы:
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
Вакуумные установки Box Coaters для производства производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) -самая большая из платформ установкок Angstrom Engineering и имеет наибольшие возможности по конфигурирования системы для задач заказчика. Установки предназначены для груповой обработки пластин в том числе большого диаметра.
Может оснащаться перчаточным боксом.
Пластины диамером до 300 мм.
Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)
Вакуумные установки Box Coaters для производства производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) -самая большая из платформ установкок Angstrom Engineering и имеет наибольшие возможности по конфигурирования системы для задач заказчика. Установки предназначены для груповой обработки пластин в том числе большого диаметра.
Может оснащаться перчаточным боксом.
Пластины диамером до 300 мм.
Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)
Вакуумная установка Amod производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - сконструирована и разработана для удовлетворения продвинутых требований к процессам в одной машине для исследований в области напыления тонких пленок и мелкосерийного производства.
Может оснащаться перчаточным боксом и загрузочным шлюзом.
Пластины диаметром до 300 мм или 3 х 100 мм, до 150х150 мм.
Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)
Вакуумная установка Amod производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - сконструирована и разработана для удовлетворения продвинутых требований к процессам в одной машине для исследований в области напыления тонких пленок и мелкосерийного производства.
Может оснащаться перчаточным боксом и загрузочным шлюзом.
Пластины диаметром до 300 мм или 3 х 100 мм, до 150х150 мм.
Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)
Вакуумная установка NexDep производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - гибкий дизайн и компактное исполнение для различных применений. Система может быть сконструирована согласно требованиям заказчика.
Пластины диаметром до 200 мм или до 100х100 мм.
Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)
Вакуумная установка NexDep производства Angstrom Engineering Inc. (Канада) - гибкий дизайн и компактное исполнение для различных применений. Система может быть сконструирована согласно требованиям заказчика.
Пластины диаметром до 200 мм или до 100х100 мм.
Процессы:
резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation)
магнетронное напыление (magnetron sputtering deposition)
электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation)
ионное напыление (ion-assisted deposition)
ООО "Минатех"— Микро и нано технологии
Статьи
© Все права защищены
Россия, Москва, ул. Ткацкая, д.5с1.
тел./факс: +7 (495) 909-89-53 / +7 (495) 909-89-54
моб.тел.: +7 (926) 134-69-15
e-mail: info@minateh.ru
