Установка плазменной очистки низкого давления модели Zepto производства Diener electronic (Германия).
Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)
Примеры применения по отраслям...
мелкосерийное производство
аналитика (SEM, TEM)
медицина
стерилизация
исследования
археология
обработка текстиля
полупроводники
обработка пластиков
Камера: цилиндрическая, от 1,7 до 2,6 литра
Вакуумный насос
Ганератор: 100 кГц, до 30 Вт, 40кГц, до 100 Вт, 13,56 МГц, до 30 Вт., 13,56 МГц, до 200 Вт
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии - до 2 шт. (игольчатые глапана или MFC)
| Тип установки | плазма низкого давления |
| Вакуумная камера | цилиндрическая, от 1,7 до 2,6 литров: Ø 105 mm, глубина 200 мм или 300 мм (кварцевая) Ø 95 mm, глубина 200 мм или 300 мм (боросиликатное стекло) |
| Материал камеры | Боросиликатное стекло или кварцевое стекло |
| Подвод газа | до 2-х газовых линий с игольчатым клапанов или MFC |
| Генератор плазмы | 100 кГц, до 30 Вт, 40кГц, до 100 Вт, 13,56 МГц, до 30 Вт. (фиксированное согласование) 13,56 МГц, до 200 Вт (автоматическое согласование) |
| Контроль | Ручной PCCE-Control (Microsoft Windows CE) - PLC PC-Control (Microsoft Windows XPe) - PC |
| Производительность вакуумного насоса |
сухой насос, 1,3 до 2,5 м3/ час |
| Подключение | 220 В, 50 Гц |
Установка плазменной очистки низкого давления модели CIONE 6 производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея) с двумя режимами плазменной обработки - RIE & PE
Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, прецизионное травление тонких слоев (мелкосерийные процессы), травление 2D материаллов
Process Mode: Mode: PE (Plasma Etching) & RIE (Reactive Ion Etching) Mode with dual electrode
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr
Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 300 Вт. или 13,56 МГц, 300 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)
Установка плазменной очистки низкого давления модели CIONE 6 производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея) с двумя режимами плазменной обработки - RIE & PE
Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, прецизионное травление тонких слоев (мелкосерийные процессы), травление 2D материаллов
Process Mode: Mode: PE (Plasma Etching) & RIE (Reactive Ion Etching) Mode with dual electrode
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr
Ганератор: 20-100 кГц (шаг 10 кГц), мощность до 300 Вт. или 13,56 МГц, 300 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)
Установка плазменной очистки низкого давления модели COVANCE производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея).
Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)
Process Mode: PE
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr
Ганератор:
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)
Установка плазменной очистки низкого давления модели COVANCE производства FEMTO SCIENCE (Ю. Корея).
Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)
Process Mode: PE
Камера: прямоугольная (алюминий), ШхГхВ: 200 x 220 x 160 (мм)
Вакуумный насос, ~ 5 x 10-4 Torr
Ганератор:
Управление: ручное или автоматическое (PLC)
Газовые линии - до 4 шт (MFC)
Специальные установки плазменной очистки низкого давления модели производства Diener electronic (Германия).
Diener electronic изготавливает плазменные установки с учетом ваших индивидуальных потребностей. Установки разрабатываются с учетом следующих критериев:
- ожидаемое количество проходящего материала
- величина обрабатываемых деталей
Специальные установки плазменной очистки низкого давления модели производства Diener electronic (Германия).
Diener electronic изготавливает плазменные установки с учетом ваших индивидуальных потребностей. Установки разрабатываются с учетом следующих критериев:
- ожидаемое количество проходящего материала
- величина обрабатываемых деталей
ООО "Минатех"— Микро и нано технологии
Статьи
© Все права защищены
Россия, Москва, ул. Ткацкая, д.5с1.
тел./факс: +7 (495) 909-89-53 / +7 (495) 909-89-54
моб.тел.: +7 (926) 134-69-15
e-mail: info@minateh.ru
