Спектроскопические (спетральные) рефлектометры моделей RM 1000 и RM 2000 производства SENTECH Instruments GmbH (Германия) для исследований и производства. Применяются для измерения прозрачных, плохо абсорбирующих пленок на отражающих, прозрачных и абсорбирующих образцах спектроскопическим методом, основанном на преломлении белого света.
Измерене показателя преломления и толщины пленок и абсорбци на различных типах поверхностей. В том числе рутинные измерения в изготовлении изделий микроэлектроники (измерения толщины резистов, окислов и т.д.)
Спектральный диапазон:
RM 1000: 410-1000 нм.
RM 2000: 200 - 1000 нм.
В область измерений, осуществляемых данными приборами, входят измерения однослойных и многослойных покрытий на полупроводниках, стекле, пластике, металле и глянцевой бумаге
Применение: Измерение толщины и коэффициента преломления единичных слоев или многослойных прозрачных и полупрозрачных пленок в производстве или лаборатории.
Высокая стабильность и точность при измерении.
Высокая точность выравнивания образца (регулировка по высоте и углу наклона) с помощью автоколлиматического телескопа (АСТ).
Полный пакет предустановленных применений в микроэлектронике, фотовольтаике (солнечные элементы) и др.
Программное обеспечение FTPadv EXPERT SENTECH для проведения измерений, включающее в себя библиотеку приложений
n, k массивного материала
толщина монослоев
толщина и индекс преломления монослоев
толщина и индекс преломления верхнего слоя и многослойной структуры
- Моторизованные столики с компьютерным управлением для обрацов диаметром до 200 мм и перемещением с высокой точностью для меппинга (картирования)
- Видеокамера для выравнивания образца взамен окуляра с выводом изображения и РС.
- ПО для иммитационного моделирования (SpectraRay/3)
- Установка для измерений пленок на кристаллическом кремнии (текстурированном)Брошюра RM 1000 в PDF
Брошюра RM 2000 в PDF
Модель | RM 1000 | RM 2000 |
Измеряемые величины | Толщина пленки, индекс преломления, абсорбция и др. | |
Принцып действия | Интерферренция белого света при нормальном угле падения | Интерферренция белого света при нормальном угле падения |
Спектральный диапазон | 410 - 1000 нм. | 200 - 1000 нм. |
Время измерения | около 300 мс. | около 300 мс. |
Диапазон измеряемых толщин | 20 - 25000 нм. (в зависимости от пленки) | 5 - 50000 нм. (в зависимости от пленки) |
Диамерт светового пятна | 80 мкм | 100 мкм. |
Точность измерения тощины | 1 нм (изм. 400 нм SiO2/Si) | |
Воспроизводимость (1σ) | 0,5 нм. (изм. 400 нм SiO2/Si) | |
Источник света | Стаблизированная галогеновая лампа | Стабилизированные дейтериумная и галогеновая лампы |
Программное обеспечение | FTPadv Expert |
Спектроскопические (спетральные) эллипсометры производства SENTECH Instruments GmbH (Германия) для исследований и производства. В зависимости от модели, работающие в диапазоне от DUV-VIS-NIR-IR (190-25000 нм). Приборы с возможностью проведения измерений пленок под различными углами разработаны для высокоточного измерения толщины и оптических характеристик однослойных и многослойных пленок и пленочных структур (коэффициент преломления, показатель поглащения и др.) на различных типах поверхностей.
Спектроскопические (спетральные) эллипсометры производства SENTECH Instruments GmbH (Германия) для исследований и производства. В зависимости от модели, работающие в диапазоне от DUV-VIS-NIR-IR (190-25000 нм). Приборы с возможностью проведения измерений пленок под различными углами разработаны для высокоточного измерения толщины и оптических характеристик однослойных и многослойных пленок и пленочных структур (коэффициент преломления, показатель поглащения и др.) на различных типах поверхностей.
EMPro - новейший лазерный (сканирующий) эллипсометр производства Beijing Ellitop Scientific Co.Ltd (Китай) с возможностью проведения измерений пленок под различными углами разработан для высокоточного измерения толщины и оптических характеристик пленочных структур (коэффициент преломления, показатель поглащения) на различных типах поверхностей. Измерение нанопленок.
Длина волны - 632,8 нм
Диапазон измерения толщины пленк: 1 нм до 6000 нм.
EMPro - новейший лазерный (сканирующий) эллипсометр производства Beijing Ellitop Scientific Co.Ltd (Китай) с возможностью проведения измерений пленок под различными углами разработан для высокоточного измерения толщины и оптических характеристик пленочных структур (коэффициент преломления, показатель поглащения) на различных типах поверхностей. Измерение нанопленок.
Длина волны - 632,8 нм
Диапазон измерения толщины пленк: 1 нм до 6000 нм.
Спектроскопические (спетральные) эллипсометры производства Beijing Ellitop Scientific Co.Ltd (Китай) для исследований и производства. В зависимости от модели, работающие в диапазоне от DUV-VIS-NIR (193-2500 нм). Приборы с возможностью проведения измерений пленок под различными углами разработаны для высокоточного измерения толщины и оптических характеристик однослойных и многослойных пленок и пленочных структур (коэффициент преломления, показатель поглащения и др.) на различных типах поверхностей.
Спектроскопические (спетральные) эллипсометры производства Beijing Ellitop Scientific Co.Ltd (Китай) для исследований и производства. В зависимости от модели, работающие в диапазоне от DUV-VIS-NIR (193-2500 нм). Приборы с возможностью проведения измерений пленок под различными углами разработаны для высокоточного измерения толщины и оптических характеристик однослойных и многослойных пленок и пленочных структур (коэффициент преломления, показатель поглащения и др.) на различных типах поверхностей.